姓名

陈创创

职称

讲师

所属系

光电信息工程系

邮箱

ccchen@hfut.edu.cn

电话

个人简历

陈创创，博士。 2016~2020年在华为技术有限公司/御微半导体技术有限公司从事集成电路光刻掩膜/晶圆量测检测装备研发工作； 2024年获得华中科技大学机械工程博士学位。2024年入职伟德国际1946源自英国。目前主要从事集成电路量测检测技术与装备相关研究。相关研究成果多次被Nature, Light，中国光学工程学会，华中科技大学新闻网，科学网，搜狐网等多家国内外行业媒体及门户网站关注报道。担任Science advances等学术期刊审稿人。

研究领域

  集成电路光刻掩膜/晶圆量测检测技术与装备；计算成像与计算光谱测量技术与应用；

开设课程

科研项目

1. 国家自然科学基金重点项目“EUV光刻掩模缺陷原波长叠层衍射跨尺度检测理论与方法研究”，300万(核心成员6/10)

2. 湖北省重点研发计划重点项目“EUV光刻掩模纳米缺陷原波长检测技术与装备”，150万(核心成员5/11)

发表论文

1. Chen, C., Gu, H. & Liu, S. Ultra-simplified diffraction-based computational spectrometer. Light Sci. Appl. 13, 9 (2024). (Front cover paper)

2. Chen, C., Gu, H. & Liu, S. Ultra-broadband diffractive imaging with unknown probe spectrum. Light Sci Appl 13, 213 (2024).

3. Chen, C., Gu, H. & Liu, S. Noise-robust ptychography using dynamic sigmoid-remolding. Opt. Laser Technol. 172, 5 (2024).

4. Chen, C. et al. Resolution-enhanced reflection ptychography with axial distance calibration. Opt. Lasers Eng. 169, 107684 (2023).

5. Chen, C. et al. High throughput defect inspection and ptychographic review for EUV mask. Proc. SPIE, 2023, 12557: 125571G.

6. Chen, C., Gu, H. & Liu, S. Self-adaptive noise minimization for diffractive imaging via regularized regression. Proc. SPIE, 2023, 12963: 129630B.

专著教材

申请专利

1. 谷洪刚，刘世元，陈创创. 一种宽光谱部分相干衍射计算成像方法及系统 (公开CN117233147A)

2. 刘世元，谷洪刚，陈创创. 一种全光谱能量分布的获取方法 (公开CN117073837A)

3. 谷洪刚，刘世元，陈创创，李仲禹. 一种计算相位成像方法及系统 (公开CN115436404A)

4. 谷洪刚，陈创创，刘世元，周玉. 一种光刻缺陷衍射光强差分检测方法 (授权CN114509921B)

5. 刘世元，陈创创，谷洪刚. 一种光刻缺陷检测装置 (公开CN114002191A)

6. 陈创创. 一种掩膜板缺陷检测和颗粒去除的装置及方法 (公开CN111158219A)

7. 陈创创. 一种透镜系统和线扫机器视觉镜头(授权CN110531493B)

8. 陈创创. 一种磁悬浮工件台和缺陷检测装置 (授权CN110441233B)

9. 陈创创. 一种变焦筒镜、缺陷检测装置及缺陷检测方法 (授权CN110441234B)

获奖成果